高分子捲膜製程膜厚監控在各種高分子領域中，捲對捲的膜層塗布是其中一段生產過程，在監控膜厚時為了保持商品的完整性，無法以接觸式方法量測。
而在生產速度等於產值下，捲膜速度越快代表產量越高。
捲膜速度除了考驗生產機台本身以外，對光學式量測膜厚的穩定度也是一大考驗。
因為捲對捲通常都會有一定程度的震動，速度越快震動幅度越大，十分考驗膜厚儀的感度(曝光時間)以及穩定度。
下面實際呈現產線以極限速度(150m/min & 200m/min)捲對捲生產條件下，MCDP光譜儀對膜厚的監控數據。
捲膜狀態下膜厚量測條件量測項目: 反射率、膜厚
量測波長範圍: 400~760 nm
自動曝光時間: 6 msec
積算次數: 4次
光斑大小: 約 3 mm
工作距離: 約 10 mm
膜厚量測結果
捲對捲2
我們可以先以靜止量測來觀察機台本身穩定度，標準差為0.0056μm，相對平均值而言大約為0.028%(萬分位)。 接著可以看到150m/min & 200m/min速度下捲膜時，厚度的變動。 高速運轉下量測之穩定性較差，但膜厚數值差異不大。
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