2026/03/03 均豪(5443.TWO)法說會:半導體轉型大爆發!毛利率飆升、AI設備需求強勁

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投資理財內容聲明

YT: https://youtu.be/E3O1hvA4xnA

法說PDF: https://mopsov.twse.com.tw/nas/STR/544320260303M001.pdf

法說影音: https://www.youtube.com/watch?v=yIuHyVNinek

均豪(5443)受惠半導體轉型與AI需求帶動,2025年營收與獲利雙創新高,毛利率提升至35.1%。隨先進封裝與晶圓再生需求擴大,公司成功切入關鍵供應鏈,帶動營運結構優化。展望2026年,在客戶資本支出持續擴張下,營運動能可望延續成長。

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1. 營運亮點概覽 (Executive Summary)

  • 半導體轉型大豐收,營收獲利雙創新高:均豪 2025 年成功完成轉型,半導體營收佔比攀升至 79%(面板降至 21%)。全年營收達 46.7 億元(YoY +5.3%),稅後淨利 4.17 億元(YoY +40.4%)。
  • 獲利結構顯著躍升:受惠於產品與產業組合優化,均豪合併毛利率由 2024 年的 26.7% 大幅躍升至 35.1%,營業利益年增 44.4%,展現強勁的獲利成長動能。
  • AI 浪潮帶動先進封裝需求大增:全球前十大封裝代工廠 (OSAT) 及晶圓代工龍頭資本支出加速,G2C 聯盟(均豪、均華、志聖)在先進封裝、高階 PCB 與 AI 供應鏈相關營收佔比已超過 50%。
  • 產能無虞,放眼長期擴張:透過 G2C 聯盟協作,現有台中廠與東區廠足以支應未來 2 年的強勁訂單需求,公司並已啟動廠房擴建與研發中心建置,提前備戰 2035 年後的半導體產能需求。

2. 財務業績回顧與關鍵指標 (Financials & Key Metrics)

  • 營收與獲利表現 (2025 全年):
    • 營業收入:46.7 億元(YoY +5.3%)。
    • 營業毛利:16.39 億元(YoY +38.2%)。
    • 營業利益:4.81 億元(YoY +44.4%)。
    • 歸屬母公司稅後淨利:4.17 億元(YoY +40.4%)。
    • 子公司均華表現:2025 年 Q4 營收 YoY 成長逾 58%,全年營收 YoY +10%,毛利率提升逾 1%。
  • 關鍵財務比率:
    • 毛利率:合併毛利率達 35.1%,創五年新高;均豪個體毛利率達 38.2%。
    • 半導體業務佔比:半導體營收由 2024 年的 74% 成長至 2025 年的 79%,成功降低對面板設備的依賴。
  • 營運效率與資本規劃:
    • 配息政策:2025 年度配息達 2.2 元 (2024 年為 2.0 元)。
    • 研發投資:近三年 G2C 聯盟研發人力增長 30%,軟硬體工程師比例達 5:5。受惠概念驗證(POC)專案數量大增,自 2025H2 起研發費用比重顯著拉升。

3. 產業動態與外部環境 (Industry & Macro Environment)

  • AI 終端應用引爆設備需求:AI 應用正從軟體端(Agentic AI)走向實體端(Physical AI),AI 晶片、HBM 與高階伺服器模組需求暢旺,直接帶動了散熱、先進封裝及高階 PCB 載板設備的需求。
  • 主要客戶資本支出 (CapEx) 翻倍擴展:晶圓龍頭廠預估 2026 年 CapEx 將達 520~560 億美元;同時,OSAT 端針對先進封裝的擴產力度加劇(如 ASE 預估 5.5 億美元),設備市場從早期的「鋪陳期」正式步入「爆發期」。
  • 地緣政治與供應鏈重組:中美科技戰帶來明顯的訂單迴流台灣跡象,尤以封裝及產能最為顯著;另一方面,部分傳統產能自 2024 下半年起亦加速移往泰國及越南。

4. 未來展望與策略 (Guidance & Strategy)

  • 財務展望:管理層預期 2026 年營運動能持續強勁,目標將半導體營收佔比維持在 80% 以上。均華則預估 2026 年高單價先進製程設備的營收貢獻(2025 年已達 22%)將顯著躍升。
  • 核心市場策略 - 「由外圍切入核心」:不強碰國際大廠壟斷的最前段設備,而是針對「在地化客製需求」、「散熱研磨製程」、「中古機台汰換」與「晶圓再生」提供高度彈性的解決方案,目前已成功成為國內晶圓龍頭第一線供應商。
  • 擴產與研發計畫:由於客戶 POC 案件大增,公司已進行精科二廠的無塵室改建,並規劃水湳研發大樓,確保從試產轉向量產時有充足的腹地與產能對應。

5. 專題報告 (Special Topics)

  • 再生晶圓 (Reclaim Wafer) 與研磨拋光 (CMP) 技術:
    • 產業動能:製程從 7nm 推進至 2nm/3nm,每投入一片生產晶圓,需耗用高達 1.2~2.8 片的再生或 Dummy 晶圓,推升設備需求。
    • 應用突破:均豪的 CMP 設備已切入封裝代工廠 (OSAT) 的散熱製程、晶片平坦化,以及資料中心 SIP 資料封孔、Power Switch 等多種化合物研磨,開拓全新藍海。
  • 均華的高精密取放與 AI 檢測技術 (AOI):
    • 產業痛點:AI 伺服器模組(包含 CPU/GPU/HBM 等 20 多顆晶片組合)極其昂貴,單一晶片若有 3-5 微米的微裂痕,將導致數十萬美元的模組報廢。
    • 技術解方:均華導入結合 AI 的 In-situ AOI(原位檢測)與精密切放設備,大幅提升客戶先進封裝良率。針對 CPU 應用的兩款新設備預計於今、明兩年進入放量期。

6. 潛在風險與挑戰 (Risks & Challenges)

  • 研發成本前置壓力:POC (概念驗證) 專案數量遽增,導致公司需提前投入大量研發費用與人力資源(技術驗證往往需 1-2 年),短期內會推升營業費用率。
  • 訂單受終端 CapEx 節奏波動影響:設備出貨與營收認列高度依賴終端客戶的建廠與拉貨時程,導致單月營收波動較大(MoM 波動劇烈),管理層呼籲市場應以季(QoQ)或全年的維度來評估表現。
  • 國際大廠競爭與技術門檻:在最頂端的先進製程 CMP 設備上,本土廠商目前尚難直接替代國際巨頭,需從晶圓再生製程或中階規格市場採取「迂迴滲透」策略。

7. 問答環節精華 (Q&A Highlights)

  • 【產能規劃與整體展望類】
    • Q: 對 2026、2027 年 TSMC / OSAT / PCB 展望為何?公司產能是否足以支應先進封裝需求?
      • A: 今年客戶資本支出相較去年更為樂觀,預期先進封裝與先進 PCB 相關佔比有望超過 50%。目前致勝台中廠與均豪東區廠資源充足,足以支應未來兩年的產能需求。G2C 三家公司協作順暢,目前產能支應無虞,且團隊已著手準備 2035 年後的廠地與擴產需求。
  • 【產品技術與業務拓展類 (均華)】
    • Q: 公司 Bonder 在晶圓代工廠及 OSAT 的出貨展望?Sorter 供應端是否有機會擴大進入 OSAT?
      • A: 2026 年營運發展非常樂觀。AI 成長趨勢明確,加上全球前十大封裝廠均為公司客戶,OSAT 今年大幅擴大投資將直接使我們受惠。在高單價產品方面,其佔比已連續三年增長(去年達 22%),預計 2026 年將有更顯著的躍升。此外,用於 CPU 的精密切放新設備預計今明兩年放量,將帶來實質營收貢獻。
  • 【產品技術與策略發展類 (均豪)】
    • Q: 2026、2027 年公司的發展重心?以及再生晶圓 Grinder 設備的相關展望?
      • A: 均豪個體在半導體佔比已逾 60%,未來雙主軸引擎為「先進封裝」與「Vapor Loop 晶圓再生」。雖然我們的 CMP 設備尚無法立即取代最頂端製程的國際大廠,但透過在地化服務,已成功從中低規格設備及中古機台汰換市場切入。同時,針對 OSAT 在先進封裝散熱液體與 SIP 製程上的研磨需求,我們提供客製化的 AOI 檢測與量測解決方案,這是未來兩年非常重要的發展重心。


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本文章/資料之內容僅供參考,不構成任何形式之投資建議、要約、招攬或勸誘。

文中所述之財務數據、營運狀況、預測及產業展望,皆基於公司法說會之口述內容或特定時間點之公開資訊整理而成。未來實際發展可能因總體經濟、產業環境、市場競爭等各種客觀因素變動,而與本文內容或預期有所差異。

本資料可能包含由人工智慧(AI)輔助生成或轉錄之內容,雖已力求語意通順與資訊客觀,但無法保證其完整性與絕對正確性,亦可能存在解讀上的誤差,所有數據與營運資訊應以該公司於「公開資訊觀測站」發布之正式公告為準。

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